Российские учёные выступят с докладами

v nngu otkrylas konferenciya i shkola molodyh uchyonyh po ionnoj implantacii

IX Всероссийская конференция и школа молодых учёных и специалистов «Физические и физико-химические основы ионной имплантации» начала свою работу на базе Университета Лобачевского. Её участниками стали представители ведущих вузов и научных организаций России.

С приветственным словом к собравшимся обратился декан Физического факультета ННГУ Александр Малышев.

«Ионная имплантация как научное направление родилось в 50-60 годы прошлого века. Оно довольно быстро углубилось в производство и стало одной из базовых технологий микроэлектроники. И первые результаты были получены у нас, на нижегородской земле, в ГИФТИ (сейчас – НИФТИ) совместно с кафедрами физического факультета. Работа продолжается и по сей день. Сейчас государство старается поддерживать наукоёмкие производства, в частности сферу электроники. Для этого реализуется целый ряд программ. Например, ННГУ участвует в программе «Приоритет-2030». В вузе реализуется три направления. Одно из них – создание новой электронной компонентной базы.  Ещё один стратегический проект в рамках «Приоритет-2030» нацелен на производство химических компонентов для нужд микроэлектроники. Работа Передовой инженерной школы в ННГУ также связана с электроникой», – отметил в своём выступлении Александр Игоревич.

v nngu otkrylas konferenciya i shkola molodyh uchyonyh po ionnoj implantacii 1

Конференция носит статус всероссийской уже около 20 лет, она проходит один раз в два года. Её работа организована по нескольким секциям:

  • «Фундаментальные проблемы ионной имплантации»
  • «Ионная имплантация и полупроводники»
  • «Ионная имплантация в неполупроводниковые материалы»
  • «Применения ионной имплантации»

В течение нескольких дней учёные будут делиться опытом и своими наработками, также запланирована стендовая сессия. Закроются конференция и школа 25 октября.